Etude des propriétés physiques des couches minces de Ni et des bicouches Ni/Cu préparées par évaporation sous vide
| dc.contributor.author | HEMMOUS , Messaoud | |
| dc.contributor.author | LAYADI , Abdelhamid Encadrant | |
| dc.date.accessioned | 2026-10-13T12:44:28Z | |
| dc.date.issued | 2015 | |
| dc.description.abstract | Series of Ni thin films have been deposited by thermal evaporation onto glass, Si, mica, Al2O3, Cu and CuZn substrates with and without a Cu underlayer. The Ni thicknesses, t, are in the 4 to 163 nm range. The Cu underlayer has also been evaporated with a Cu thickness equal to 27, 52 and 90 nm. The effects of substrate, the Ni thickness and the Cu underlayer on the structural, electrical and magnetic properties of Ni are investigated. Rutherford Backscattering Spectroscopy was used to probe the Ni/Substrate and Ni-Cu underlayer interfaces and to measure both Ni and Cu thicknesses. The texture, the strain and the grain size values were derived from X ray diffraction experiments. The surface morphology is studied by means of a Scanning Electron Microscope. The electrical resistivity is measured by the four point probe. Magnetic properties were studied bay Vibrating Sample Magnetometer (VSM) and magneto-optic Kerr effect technique. The Ni films grow with the texture on all substrates. The Ni grain sizes D increase with increasing thickness for the glass, Si and mica substrates and decrease for the Cu one. The strain ε is positive for low thickness, decreases in magnitude and becomes negative as t increases. With the Cu underlayer, the growth mode goes through two phases: first, the stress (grain size) increases (decreases) up to a critical thickness tCr, then stress is relieved and grain size increases. For VSM, the hysteresis curves show an in-plane magnetic anisotropy for all samples. The first system (Ni/substrates) shows the coercivity increases with increasing thickness. The saturation field and squareness range from 0.22 KOe to 2.4 KOe and from 0.23 to 0.90, respectively. For the Ni/Cu/substrates system, the coercivity varies from 3 à 230 Oe. The squarness ranges from 0.08 to 0.67 and the saturation field varies from 0.52 KOe to 3.2 KOe. Kerr effect in the first system shows the coercivity and saturation field increase with increasing thickness and grain size. The squareness ranges from 0.45 to 0.91. For the second system, the coercive field varies from ~ 2 to 151 Oe when increasing thickness. The squarness ranges from 0.1 to 0.85 and the saturation field varies from 25 to 320 Oe. | |
| dc.description.sponsorship | Les séries des couches minces de Ni ont été déposées par évaporation thermique sur des substrats de verre, Si, mica, Al2O3, Cu et CuZn avec ou sans sous couche de Cu. Les épaisseurs des couches de Ni varient de 4 à 163 nm. La sous-couche de Cu a été évaporée avec des épaisseurs de 27, 52 et 90 nm. Les effets du substrat, l'épaisseur de Ni et de la sous-couche Cu sur les propriétés structurelles, électriques et magnétiques du Ni ont été étudiées. La RBS a été utilisée pour mesurer les épaisseurs de Ni et de Cu et de vérifier la surface et l’interfaces des films de Ni. La texture, la déformation et la taille moyenne des grains ont été mesurés à partir de technique de la diffraction des rayons X. La morphologie de surface est étudiée par le microscope électronique à balayage. La résistivité électrique est mesurée par la méthode des quatre points. Les propriétés magnétiques ont été étudiées par le magnétomètre à échantillon vibrant (VSM) et l’effet Kerr. Les films de Ni présentent une texture suivant la direction pour tous les substrats. La taille moyenne des grains de Ni augmente avec l'épaisseur pour les substrats de verre, Si et de mica et diminue pour le Cu. Le strain, ε, est positif pour les faibles épaisseurs et diminue pour devient négative avec l’augmentation de l’épaisseur. Avec la sous-couche Cu, le mode de croissance passe par deux phases: les contraintes (la taille des grains) augmentent (diminuent) jusqu'à une épaisseur critique tCr, alors que les contraintes sont relaxées lorsque la taille moyenne des grains augmente. Par VSM, les cycles d'hystérésis présentent une anisotropie magnétique dans le plan pour tous les échantillons. Le système Ni/substrats montre une augmentation de la coercivité avec l’augmentation de l’épaisseur. Le champ de saturation et le squareness varient de 0.22 kOe à 2.4 kOe et de 0,23 à 0.90, respectivement. Pour le système Ni/Cu/substrats, le champ coercitif varie de 3 à 230 Oe. Le squarness varie 0.08 à 0.67 et le champ de saturation varie de 0.52 à 3.2 kOe. L’effet Kerr dans le premier système présente l'augmentation du champ coercitif et du champ de saturation avec augmentation de l'épaisseur et de la taille des grains. Le squarness varie de 0.45 à 0.91. Pour le deuxième système, le champ coercitif varie de ~ 2 à 151 Oe. Le squarness varie de 0,1 à 0,85 et le champ de saturation varie de 25 à 320 Oe. | |
| dc.identifier.uri | https://repository.univ-setif.dz/handle/123456789/3435 | |
| dc.language.iso | fr | |
| dc.publisher | Université Sétif 1 - Ferhat ABBAS , Faculté des Sciences | |
| dc.subject | Ni films | |
| dc.subject | Ni/Cu | |
| dc.subject | Evaporation | |
| dc.subject | DRX | |
| dc.subject | MEB | |
| dc.subject | VSM et effet Kerr | |
| dc.title | Etude des propriétés physiques des couches minces de Ni et des bicouches Ni/Cu préparées par évaporation sous vide | |
| dc.type | Thesis |
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