Croissance électrochimique de nanostructures de ZnO aux propriétés contrôlées

dc.contributor.authorBOUZERARA , Sara
dc.contributor.authorMENTAR , Loubna Encadrant
dc.date.accessioned2026-06-21T09:28:23Z
dc.date.issued2025
dc.descriptionDans un contexte de transition énergétique, cette thèse s’inscrit dans le développement de matériaux photovoltaïques à haut rendement, à faible coût et respectueux de l’environnement. L’oxyde de zinc (ZnO) a été retenu pour ses propriétés remarquables : transparence optique, conductivité électrique, stabilité chimique et compatibilité écologique. L’étude porte sur l’optimisation des propriétés des couches minces de ZnO élaborées sur substrats d’ITO, à partir d’un bain de nitrate. L’influence de plusieurs paramètres notamment l’épaisseur de la couche tampon, le temps de déposition et la méthode de dépôt sur la nucléation et la croissance des structures de ZnO a été analysée sur la nucléation et la croissance du ZnO. Des caractérisations structurales (DRX), morphologiques (MEB), optiques (UV-Vis) et électriques ont été menées. Les résultats indiquent que les meilleures performances sont obtenues avec une couche tampon de 75 nm, une déposition de 60 minutes et la méthode de dépôt pulsé, constituant ainsi une avancée prometteuse pour la fabrication de de dispositifs à base de ZnO efficaces et durables.
dc.description.abstractIn the context of the energy transition, this thesis contributes to the development of high efficiency, low-cost, and environmentally friendly photovoltaic materials. Zinc oxide (ZnO) was selected for its remarkable properties, including optical transparency, electrical conductivity, chemical stability, and ecological compatibility. The study focuses on optimizing the properties of ZnO thin films deposited on ITO substrates using a nitrate-based bath. The influence of several parameters; namely the thickness of the seed layer, deposition time, and deposition method; on the nucleation and growth of ZnO structures was analyzed. Structural (XRD), morphological (SEM), optical (UV-Vis), and electrical characterizations were carried out. The results indicate that the best performance is achieved with a 75 nm seed layer, 60 minutes of deposition, and the pulsed deposition method, representing a promising step forward in the fabrication of efficient and sustainable ZnO faced devices
dc.identifier.urihttps://repository.univ-setif.dz/handle/123456789/1125
dc.language.isofr
dc.publisherUniversité Sétif 1 - Ferhat ABBAS , Faculté de Technologie
dc.subjectNanostructure
dc.subjectElectrodéposition
dc.subjectCouche tampon
dc.subjectZnO
dc.subjectMott-Shottkey
dc.titleCroissance électrochimique de nanostructures de ZnO aux propriétés contrôlées
dc.typeThesis

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