Etude du comportement électrochimique et optique de couches minces d’oxyde de nickel (NiO) ; application en photovoltaïques
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Université Sétif 1 - Ferhat ABBAS , Faculté de Technologie
Abstract
This work concerns the synthesis and characterization of nickel oxide thin films by direct and pulsed electrodeposition on FTO electrodes. Nickel oxide was used to prepare composite films (P3HT-NiO) on ITO electrodes by the spin-coating method. The analysis of the electrochemical, morphological properties of FTO/NiO and ITO/(P3HT-NiO) was performed by various DRX, AFM, MEB, MET, and UV-visible spectroscopy techniques. FTO / NiO thin films and ITO / (P3HT-NiO) composite films were used as examples for their application as active materials in supercapacitors. Electrochemical performances were evaluated by cyclic voltammetry, galvanostatic charge-discharge tests, electrochemical impedance spectroscopy (SIE) and photocurrent measurement. The specific capacity obtained for the direct electroplated NiO is about 250 Fg-1, this value was increased up to 1000 Fg-1 for the NiO film prepared by electrodeposition pulsed at 5 Ag-1. The result obtained shows that the photocurrent increases 5 times for a rate of 10% of NiO for the film ITO/(P3HT-NiO) compared to ITO/P3HT alone.
Description
Ce travail concerne la synthèse et la caractérisation des couches minces d’oxyde de nickel par électrodéposition direct et pulsé sur des électrodes en oxyde d'étain dopé au fluor
(FTO). L’oxyde de nickel a été utilisée pour préparer des films composite (P3HT-NiO) sur des électrodes d’oxyde d'étain dopé à l’indium (ITO) par la méthode spin-coating. L’analyse
des propriétés électrochimiques, morphologique de FTO/NiO et ITO/(P3HT+NiO) a été réalisée par différentes techniques DRX, AFM, MEB, MET, et spectroscopie UV-visible. Les
couches minses FTO/NiO et les films composites ITO/(P3HT-NiO) ont été pris comme exemple en vue de leur application comme matériaux actifs dans les supercondensateurs.Les
performances électrochimiques ont été évaluées par voltampérométrie cyclique, tests de charge-décharge galvanostatique, spectroscopie d'impédance électrochimique (SIE) et mesure de photocourant. La capacité spécifique obtenue pour le NiO préparé par électrodéposition direct est d'environ 250 Fg-1, cette valeur a été augmentée jusqu'à 1000 Fg-1 pour le film de NiO préparé par électrodéposition pulsé à 5 Ag-1. Le résultat obtenu montre qu’il y a une augmentation en photocourent plus de 5 fois pour un taux de 10% de NiO pour le film composite ITO/(P3HT-NiO) par rapport à ITO/P3HT seul